logo

2c, 3c, 4c Substrat SiC 330um Grubość 4H-N

Podłoże SiC
2024-05-29
110 poglądy
Skontaktuj się teraz
2c, 3c, 4c Substrat SiC 330um Grubość 4H-N Typ Opis produktu: Substrat SiC jest dostępny w różnych rozmiarach, w tym 2c, 3c, 4c, 6c i 8c. Umożliwia to klientom wybór najbardziej odpowiedniego rozmiaru ... Zobacz więcej
Wiadomości odwiedzających ZOSTAW WIADOMOŚĆ
2c, 3c, 4c Substrat SiC 330um Grubość 4H-N
2c, 3c, 4c Substrat SiC 330um Grubość 4H-N
Skontaktuj się teraz
Ucz się więcej
Powiązane wideo
4H-N typu SiC Substrate 10x10mm Wafer do elektroniki mocy 00:11

4H-N typu SiC Substrate 10x10mm Wafer do elektroniki mocy

Podłoże SiC
2025-07-31
Karbyd krzemowy (SiC) Substrat 6 cali 8 cali płytka testowa do cięcia laserowego 00:12

Karbyd krzemowy (SiC) Substrat 6 cali 8 cali płytka testowa do cięcia laserowego

Podłoże SiC
2024-06-03
3' 4' 350um 500um SSP DSP 4H- 6H- Research Dummy Grade SIC Epitaxial Substrates 00:10

3' 4' 350um 500um SSP DSP 4H- 6H- Research Dummy Grade SIC Epitaxial Substrates

Podłoże SiC
2024-04-11
4H-SEMI Substrat SiC z węglem krzemowym 2 cali grubość 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer 00:10

4H-SEMI Substrat SiC z węglem krzemowym 2 cali grubość 350um 500um Prime Grade Dummy Grade SiC Wafer

Podłoże SiC
2024-08-15
Dostosowany rozmiar Kwadratowy układ scalony SIC Niski niedopasowanie kratowe z wysoką temperaturą 00:12

Dostosowany rozmiar Kwadratowy układ scalony SIC Niski niedopasowanie kratowe z wysoką temperaturą

Podłoże SiC
2022-09-09
4H-SEMI SiC Substrate Cutting Disc Dia 10 mm Grubość 5 mm <0001> Wysoka twardość 00:06

4H-SEMI SiC Substrate Cutting Disc Dia 10 mm Grubość 5 mm <0001> Wysoka twardość

Podłoże SiC
2024-08-27
Custom Monocrystalline Sapphire Optical Domes for Missile Seekers 00:10

Custom Monocrystalline Sapphire Optical Domes for Missile Seekers

Sapphire Optical Windows
2025-08-26
Ruby Bearings Al₂O₃ Single Crystal for Precision Instruments and Meters 00:15

Ruby Bearings Al₂O₃ Single Crystal for Precision Instruments and Meters

Szafirowe części
2025-08-26
Robotowa maszyna do polerowania płaskich/sferycznych/asferycznych elementów optycznych 00:20

Robotowa maszyna do polerowania płaskich/sferycznych/asferycznych elementów optycznych

Sprzęt półprzewodnikowy
2025-08-26
Maszyna do cięcia piły wieloprzewodnej do obróbki kamienia naturalnego 00:36

Maszyna do cięcia piły wieloprzewodnej do obróbki kamienia naturalnego

Sprzęt półprzewodnikowy
2025-08-26
Przełączalne urządzenie do obróbki laserowej chromatycznej 355nm/532nm/1064nm 00:29

Przełączalne urządzenie do obróbki laserowej chromatycznej 355nm/532nm/1064nm

Sprzęt półprzewodnikowy
2025-08-18
355nm/532nm/1064nm Chromatic Laser Marking System dla stali nierdzewnej 00:26

355nm/532nm/1064nm Chromatic Laser Marking System dla stali nierdzewnej

Sprzęt półprzewodnikowy
2025-08-18
​​Wysokoprecyzyjne urządzenia do jednostronnego polerowania dla wafli Si/SiC/szafiru​​ 00:21

​​Wysokoprecyzyjne urządzenia do jednostronnego polerowania dla wafli Si/SiC/szafiru​​

Sprzęt półprzewodnikowy
2025-08-15
​​Wysokoprecyzyjne dwustronne urządzenia do szlifowania/polerowania szafiru/szkła/kwarcu 00:07

​​Wysokoprecyzyjne dwustronne urządzenia do szlifowania/polerowania szafiru/szkła/kwarcu

Sprzęt półprzewodnikowy
2025-08-15
Dwustronne precyzyjne szlifowanie metali/niemetali/ceramiki/plastiku 00:09

Dwustronne precyzyjne szlifowanie metali/niemetali/ceramiki/plastiku

Sprzęt półprzewodnikowy
2025-08-15