Wyślij wiadomość
Produkty
Produkty
Dom > Produkty > Wafel azotowy galu > 2-4-calowy wafel HVPE GaN Dostosowany rozmiar Wolnostojący pojedynczy kryształ GaN

2-4-calowy wafel HVPE GaN Dostosowany rozmiar Wolnostojący pojedynczy kryształ GaN

Szczegóły Produktu

Miejsce pochodzenia: CHINY

Nazwa handlowa: zmkj

Numer modelu: GaN-niepolarny

Warunki płatności i wysyłki

Minimalne zamówienie: 1 SZT.

Cena: by case

Szczegóły pakowania: pojedynczy wafelek w 100-stopniowej pralni

Czas dostawy: 2-4 tygodnie

Zasady płatności: L/C, T/T

Uzyskaj najlepszą cenę
Podkreślić:

substrat gan

,

szablon gan

Materiał:
Pojedynczy kryształ GaN
metoda:
HVPE
Rozmiar:
10x10mm, 5x5mm
Grubość:
350um
Przemysł:
LD, led, urządzenie laserowe, detektor,
Powierzchnia:
śpiewać lub dwustronnie polerowane
Gatunek:
dla LD
Rodzaj:
Niepolarne wolnostojące podłoża GaN
Materiał:
Pojedynczy kryształ GaN
metoda:
HVPE
Rozmiar:
10x10mm, 5x5mm
Grubość:
350um
Przemysł:
LD, led, urządzenie laserowe, detektor,
Powierzchnia:
śpiewać lub dwustronnie polerowane
Gatunek:
dla LD
Rodzaj:
Niepolarne wolnostojące podłoża GaN
2-4-calowy wafel HVPE GaN Dostosowany rozmiar Wolnostojący pojedynczy kryształ GaN

2-calowy szablon podłoży GaN, płytka GaN dla LeD, półprzewodnikowa płytka z azotku galu dla ld, szablon GaN, płytka mocvd GaN, wolnostojące podłoża GaN według niestandardowego rozmiaru, mała płytka GaN dla LED, mocvd płytka z azotku galu 10x10mm,5x5mm, 10x5mm GaN wafel, niepolarne wolnostojące podłoża GaN (a-płaszczyzna i m-płaszczyzna)

 

Charakterystyka płytki GaN

Produkt Podłoża z azotku galu (GaN).
Opis produktu: Przedstawiono matrycę Saphhire GaN metodą epitaksji z fazy gazowej wodorków epitaksjalnych (HVPE).W procesie HVPE kwas wytwarzany w reakcji GaCl, który z kolei poddaje się reakcji z amoniakiem w celu wytworzenia stopionego azotku galu.Epitaksjalny szablon GaN to opłacalny sposób zastąpienia monokrystalicznego podłoża z azotku galu.
Parametry techniczne:
Rozmiar 2" okrągłe; 50mm ± 2mm
Pozycjonowanie produktu Oś C <0001> ± 1,0.
Typ przewodnictwa Typ N & Typ P
Oporność R <0,5 Ohm-cm
Obróbka powierzchni (twarz Ga) AS Dorosły
RMS <1nm
Dostępna powierzchnia > 90%
Dane techniczne:

 

Folia epitaksjalna GaN (płaszczyzna C), typu N, 2 "* 30 mikronów, szafir;

Folia epitaksjalna GaN (płaszczyzna C), typu N, 2 "* 5 mikronów szafiru;

Warstwa epitaksjalna GaN (płaszczyzna R), typu N, 2 "* 5 mikronów szafiru;

Folia epitaksjalna GaN (płaszczyzna M), typu N, 2 "* 5 mikronów szafiru.

warstwa AL2O3 + GaN (Si domieszkowany typu N);Folia AL2O3 + GaN (Mg domieszkowany typu P)

Uwaga: zgodnie z wymaganiami klienta specjalne orientacje i rozmiary wtyczek.

Standardowe Opakowanie: 1000 czystych pomieszczeń, 100 czystych toreb lub pojedynczych pudełek

2-4-calowy wafel HVPE GaN Dostosowany rozmiar Wolnostojący pojedynczy kryształ GaN 0

Aplikacja

GaN może być stosowany w wielu obszarach, takich jak wyświetlacze LED, wykrywanie i obrazowanie wysokich energii,
Wyświetlacz projekcji laserowej, urządzenie zasilające itp.

  • Wyświetlacz projekcji laserowej, urządzenie zasilające itp.
  • Przechowywanie daty
  • Energooszczędne oświetlenie
  • Pełnokolorowy wyświetlacz fla
  • Projekcje laserowe
  • Wysokowydajne urządzenia elektroniczne
  • Urządzenia mikrofalowe wysokiej częstotliwości
  • Wykrywanie i wyobrażanie sobie wysokich energii
  • Nowa technologia energii słonecznej wodorowej
  • Wykrywanie środowiska i medycyna biologiczna
  • Pasmo terahercowe źródła światła

2-4-calowy wafel HVPE GaN Dostosowany rozmiar Wolnostojący pojedynczy kryształ GaN 1 
 
Dane techniczne:

 

Specyfikacja szablonu GaN

2-4-calowy wafel HVPE GaN Dostosowany rozmiar Wolnostojący pojedynczy kryształ GaN 2

 
2 ~ 4-calowy wolnostojący plik specyfikacji GaN
Przedmiot GaN-FS-CU-C50 GaN-FS-CN-C50 GaN-FS-C-SI-C50
Wymiary e 50,8 mm ± 1 mm
Grubość 350 ± 25 po południu
Powierzchnia użytkowa > 90%
Orientacja Płaszczyzna C (0001) kąt odchylenia w kierunku osi M 0,35° ± 0,15°
Płaska orientacja (1-100) ±0,5°, 16,0 ±1,0 mm
Płaska orientacja drugorzędna (11-20) ±3°, 8,0 ±1,0 mm
TTV (całkowita zmiana grubości) < 15:00
UKŁON < 20:00
Typ przewodzenia typu N typu N Półizolujące (domieszkowane Fe)
Rezystywność (3O0K) < 0,1 Q·cm < 0,05 Q·cm >106 Q·cm
Gęstość dyslokacji Od 1x105 cm-2 do 3x106 cm-2
Polerowanie Powierzchnia przednia: Ra < 0,2 nm (polerowana);lub < 0,3 nm (polerowanie i obróbka powierzchni pod kątem epitaksji)
Tylna powierzchnia: 0,5 ~ 1,5 pm;opcja: 1~3 nm (dokładne szlifowanie);< 0,2 nm (polerowane)
Pakiet Pakowane w pomieszczeniu czystym klasy 100, w pojedynczych pojemnikach waflowych, w atmosferze azotu.
 
rozmiar Podłoża 4”GaN
Przedmiot GaN-FS-N
Wymiary rozmiar Ф 100,0 mm ± 0,5 mm
Grubość podłoża 450 ± 50 µm
Orientacja podłoża Oś C(0001) w kierunku osi M 0,55± 0,15°
Polski SSP lub DSP
metoda HVPE
UKŁON <25UM
TTV <20um
Chropowatość <0,5 nm
oporność 0,05 oma cm
Domieszka Si
(002) FWHM&(102) FWHM
<100arc
Ilość i maksymalny rozmiar otworów
i doły
Klasa produkcyjna ≤23 @ 1000 um; Klasa badawcza ≤68 @ 1000 um
Klasa manekina ≤112 @ 1000 um
Powierzchnia użytkowa poziom P>90%;Poziom R>80%: Dlevel>70% (wykluczenie defektów krawędzi i makr)

 

  Niepolarne wolnostojące podłoża GaN (a-płaszczyzna i m-płaszczyzna)
Przedmiot GaN-FS-a GaN-FS-m
Wymiary 5,0 mm × 5,5 mm
5,0 mm × 10,0 mm
5,0 mm × 20,0 mm
Dostosowany rozmiar
Grubość 330 ± 25 um
Orientacja a-płaszczyzna ± 1° m-płaszczyzna ± 1°
TTV ≤15 µm
UKŁON ≤20 µm
Typ przewodzenia typu N
Rezystywność (300K) < 0,5 Ω·cm
Gęstość dyslokacji Mniej niż 5x106 cm-2
Powierzchnia użytkowa > 90%
Polerowanie Powierzchnia przednia: Ra <0,2 nm.Wypolerowany na Epi-ready
Tylna powierzchnia: Drobno szlifowana
Pakiet Pakowane w pomieszczeniu czystym klasy 100, w pojedynczych pojemnikach waflowych, w atmosferze azotu.

 

 

2-4-calowy wafel HVPE GaN Dostosowany rozmiar Wolnostojący pojedynczy kryształ GaN 3

2.ZMKJ dostarcza płytki GaN dla przemysłu mikroelektroniki i optoelektroniki w średnicach od 2" do 4".

Płytki epitaksjalne GaN są hodowane metodą HVPE lub MOCVD, mogą być stosowane jako idealne i doskonałe podłoże dla urządzeń o wysokiej częstotliwości, dużej prędkości i dużej mocy.Obecnie możemy zaoferować wafel epitaksjalny GaN do podstawowych badań i rozwoju produktów, w tym szablon GaN, AlGaN

i InGaN.Oprócz standardowej płytki opartej na GaN, zapraszamy do omówienia struktury warstwy epi.
 
2-4-calowy wafel HVPE GaN Dostosowany rozmiar Wolnostojący pojedynczy kryształ GaN 4