

Dom

O nas

profil firmy

Wycieczka po fabryce

Kontrola jakości

Często zadawane pytania

Produkty

Wafel azotowy galu

Szafirowy opłatek

Podłoże SiC

Sapphire Optical Windows

IC Wafel silikonowy

Maszyna do piły drutowej

Syntetyczny Sapphire Rod

Topiona płyta kwarcowa

Szafirowe części

Syntetyczny kamień szlachetny

Sprzęt półprzewodnikowy

Wafel LiNbO3

Wafel indofosforowy

Podłoże ceramiczne

Opakowanie laboratoryjne

GaAs Wafer

rozwiązania

Blog

Skontaktuj się z nami

Zakupy

zacytować

Polecam wam te filmy

Powtórna rozgrywka

Następny filmik

Custom Silicon Carbide (SiC) Stepped Ceramic Plate for Semiconductor Equipment

Podłoże ceramiczne

2025-12-19

porozmawiaj teraz

Podział

#tlenek ceramiczny z tlenku glinu #substrat ceramiczny #ceramiczny węglik krzemu

Custom Silicon Carbide (SiC) Stepped Ceramic Plate for Semiconductor Equipment Product Overview This custom silicon carbide ceramic component features a circular plate geometry with a precision... Zobacz więcej

Wiadomości odwiedzających ZOSTAW WIADOMOŚĆ

Custom Silicon Carbide (SiC) Stepped Ceramic Plate for Semiconductor Equipment

Custom Silicon Carbide (SiC) Stepped Ceramic Plate for Semiconductor Equipment

porozmawiaj teraz

Ucz się więcej

Powiązane wideo

Custom Zirconia (ZrO₂) Ceramic Molds with Precision Laser Engraving & Marking

Custom Zirconia (ZrO₂) Ceramic Molds with Precision Laser Engraving & Marking

Podłoże ceramiczne

Ceramiczne szpilki cyrkonowe do zastosowań przemysłowych i medycznych

Ceramiczne szpilki cyrkonowe do zastosowań przemysłowych i medycznych

Podłoże ceramiczne

Płytka ceramiczna SiC do procesów epitaxy i etsu ICP płytek LED

Płytka ceramiczna SiC do procesów epitaxy i etsu ICP płytek LED

Podłoże ceramiczne

Płytka ceramiczna z węglanu krzemowego do przetwarzania płyt półprzewodnikowych

Płytka ceramiczna z węglanu krzemowego do przetwarzania płyt półprzewodnikowych

Podłoże ceramiczne

Alumina Ceramic Custom Components Wysoka twardość dla urządzeń do produkcji półprzewodników

Alumina Ceramic Custom Components Wysoka twardość dla urządzeń do produkcji półprzewodników

Podłoże ceramiczne

Technologia TGV (Through-Glass Via) Wysokiej jakości borosilikat szklany kwarc

Technologia TGV (Through-Glass Via) Wysokiej jakości borosilikat szklany kwarc

Podłoże ceramiczne

Semi-Polished & Fine-Ground Sapphire Capillary Tubes for Advanced Optical & Semiconductor Applications

Semi-Polished & Fine-Ground Sapphire Capillary Tubes for Advanced Optical & Semiconductor Applications

Szafirowe części

Wyroby kwarcowe do przetwarzania półprzewodników

Wyroby kwarcowe do przetwarzania półprzewodników

Topiona płyta kwarcowa

Karbid krzemowy prostokątny podłoża SiC chip dla zaawansowanej elektroniki

Karbid krzemowy prostokątny podłoża SiC chip dla zaawansowanej elektroniki

Sapphire Block Al2O3 Precision Cutting Dostosowywalne rozmiary dla optyki i półprzewodników

Sapphire Block Al2O3 Precision Cutting Dostosowywalne rozmiary dla optyki i półprzewodników

Szafirowy opłatek

Niestandardowe łożyska rubinowe (Al₂O₃) do precyzyjnych instrumentów i mechanizmów zegarkowych

Niestandardowe łożyska rubinowe (Al₂O₃) do precyzyjnych instrumentów i mechanizmów zegarkowych

Szafirowe części

Ingot kwarcowy do zastosowań optycznych, półprzewodnikowych i wysokotemperaturowych

Ingot kwarcowy do zastosowań optycznych, półprzewodnikowych i wysokotemperaturowych

Topiona płyta kwarcowa

2-calowy DSP Sapphire Wafer 200 μm Al2O3 do zastosowań LED i optycznych

2-calowy DSP Sapphire Wafer 200 μm Al2O3 do zastosowań LED i optycznych

Szafirowy opłatek

4-calowy substrat szafirowy C-Plane SSP Al₂O₃ do zastosowań LED i optycznych

4-calowy substrat szafirowy C-Plane SSP Al₂O₃ do zastosowań LED i optycznych

Szafirowy opłatek

Surowy krążek szafirowy do zastosowań optycznych, półprzewodnikowych i wysokotemperaturowych

Surowy krążek szafirowy do zastosowań optycznych, półprzewodnikowych i wysokotemperaturowych

Szafirowy opłatek