Krótki: Odkryj wyjątkową jakość niepolerowanych rur szafirowych produkowanych metodą KY lub EFG. Rury te, wykonane z tlenku glinu o ultra wysokiej czystości, oferują niezrównaną twardość, odporność termiczną i obojętność chemiczną. Idealne do zastosowań w półprzewodnikach, optoelektronice i przemyśle, są dostępne w niestandardowych rozmiarach od Φ5mm do Φ150mm.
Powiązane cechy produktu:
Wyjątkowa twardość (9 w skali Mohsa) dla doskonałej odporności na ścieranie w środowiskach o wysokim tarciu.
Wyjątkowa odporność termiczna, wytrzymałość na temperatury do 2050°C.
Wyższa obojętność chemiczna, odporność na silne kwasy, alkalie i korozję plazmy.
Utrzymuje >80% przepuszczalności światła w widmie widzialnym, nawet w stanie nieoszlifowanym.
Wysoka wytrzymałość mechaniczna z wytrzymałością gięciową > 400 MPa i wytrzymałością na ciśnienie > 2 GPa.
Dostępne w średnicach od Φ5 mm do Φ150 mm z dostosowalnymi grubościami ścian (0,5-20 mm).
Wytwarzane z wykorzystaniem aluminu o bardzo wysokiej czystości (Al2O3 ≥99,99%) w celu zapewnienia najwyższej jakości.
Idealny do zastosowań półprzewodnikowych, optoelektronicznych i sprzętu przemysłowego.
Często zadawane pytania:
W jaki sposób najczęściej wykorzystywane są lampy z szafiru?
Rury szafirowe są szeroko stosowane w produkcji półprzewodników (np. do ograniczania plazmy, ochrony termopar), urządzeniach medycznych (np. narzędzia chirurgiczne laserowe), systemach optycznych (np. osłony lamp UV/IR) oraz w wysokociśnieniowych urządzeniach przemysłowych (np. reaktory chemiczne) ze względu na ich ekstremalną trwałość i przejrzystość.
Dlaczego wybierać zafirowe rurki zamiast kwarcowych lub ceramicznych?
Rury szafirowe przewyższają kwarc i ceramikę pod względem stabilności w wysokich temperaturach (do 2000°C), obojętności chemicznej (odporność na kwasy/zasady) i wytrzymałości mechanicznej, co czyni je idealnymi do trudnych środowisk, takich jak obróbka plazmowa i systemy lotnicze.
Jakie opcje dostosowania są dostępne dla rur szafirowych?
Rury szafirowe mogą być dostosowywane w średnicach od Φ5 mm do Φ150 mm, z grubością ścian od 0,5-20 mm, aby spełnić specyficzne wymagania zastosowań w półprzewodnikach, optoelektronikach,sektorów sprzętu przemysłowego.